PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積爐）
PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的設(shè)備，具有高沉速率率、高均勻性和高附著力等特點(diǎn)，能夠制備出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料。應(yīng)用領(lǐng)域包括但不限于光伏產(chǎn)業(yè)、顯示器制造、半導(dǎo)體制造、光學(xué)領(lǐng)域、生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域等。
九所科技生產(chǎn)的PECVD設(shè)備采用高純石英原件，具有出色的高熱穩(wěn)定性，且具有完善的安全保護(hù)功能，能夠有效地防止實驗過程中意外情況的發(fā)生。我們可以根據(jù)客戶需求進(jìn)行擴(kuò)展和升級，滿足不同領(lǐng)域的研究需求。
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